[5p-PA1-1~82] 17 ナノカーボン（ポスター）

[5p-PA1-39] RF-N₂プラズマ照射による4H-SiCポーラスエピタキシャルグラフェンの孔密度制御

〇竹田 直喜¹、石丸 大樹¹、今井 宏友¹、橋本 明弘¹ (1.福井大院工)

キーワード：陽極酸化、ポーラスエピタキシャルグラフェン