[5p-S42-1~15] 7.3 Micro/Nano patterning and fabrication

△ [5p-S42-15] Evaluation of UV nanoimprint and multilayer lift-off process using spin-on-glass for nanogap electrode array

〇Kyouhei Hashiguchi^1,2, Kenta Suzuki², Hiroshi Hiroshima², Hiroshi Suga¹ (1.CIT, 2.AIST)

Keywords:UV nanoimprint, nanogap, lift-off

ナノギャップ電極は、単一分子およびナノ粒子の電気的特性、および不揮発性メモリへの応用に期待されている. 我々は, リフトオフレジストを用いた2層リフトオフUV-NILで金属ナノギャップ電極の作製が可能であることを示した. しかし, インプリント残膜面内のばらつきによって, インプリント面内全域にナノワイヤーを作製することが難しかった. 本研究では, スピンオングラスを中間層に利用した多層リフトオフUV-NILの検討を行った.