[5p-S42-1~15] 7.3 Micro/Nano patterning and fabrication

△ [5p-S42-5] Absorption Coefficient Measurement Advanced Method of EUV Resist by Direct-Resist Coating on a Photodiode

〇(M1)Shota Niihara¹, Daiki Mamezaki¹, Masanori Watanabe¹, Tetsuo Harada¹, Takeo Watanabe¹ (1.Univ. of Hyogo)

Keywords:EUV resist, absorption coefficient, transmittance measurement

レジスト性能向上の必須項目の一つとして感度の向上が挙げられる。近年、レジストに金属を含有することでEUV光に対する吸収を増加させ、感度を向上させる手法が注目を浴びている。レジスト開発には吸収係数を実際に測定することが重要である。我々はNewSUBARU放射光施設において、フォトダイオードを用いたレジストの吸収係数測定法を開発している。複数膜厚のサンプルの計測を通して吸収係数測定法の高度化を行った。