[5p-S42-1~15] 7.3 Micro/Nano patterning and fabrication

△ [5p-S42-9] Fabrication of semiconductor nanopatterns on atomically stepped ultra-flat polymer substrates by thermal nanoimprint technique

〇Risa Goto¹, Shiori Yamada¹, Takumi Sannomiya¹, Satoru Kaneko², Akifumi Matsuda¹, Mamoru Yoshimoto¹ (1.Tokyo Tech. Materials, 2.KISTEC)

Keywords:thermal nanoimprint, polyimide, semiconductor

我々はこれまでに、熱ナノインプリントの一括転写プロセスを用いた、可視光透過率の高い透明ポリイミド(PI)フィルム表面への金ナノ粒子の周期的パターンの転写に成功した。一方、周期的な極微細パターンを有するポリマー基板上における機能性薄膜の作製と評価に関する報告はまだ少ない。本研究では、フレキシブルポリマー材料上に透明酸化物半導体の周期的な微細構造を作製し、形態制御や光学特性・導電性の変化について検討した。