The 78th JSAP Autumn Meeting, 2017

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Oral presentation

7 Beam Technology and Nanofabrication » 7.3 Micro/Nano patterning and fabrication

[5p-S42-1~15] 7.3 Micro/Nano patterning and fabrication

Tue. Sep 5, 2017 1:15 PM - 5:45 PM S42 (Conf. Room 2)

Toru Yamaguchi(NTT), Jiro Yamamoto(HITACHI), Jun Taniguchi(Tokyo Univ. of Sci.)

3:45 PM - 4:00 PM

[5p-S42-9] Fabrication of semiconductor nanopatterns on atomically stepped ultra-flat polymer substrates by thermal nanoimprint technique

Risa Goto1, Shiori Yamada1, Takumi Sannomiya1, Satoru Kaneko2, Akifumi Matsuda1, Mamoru Yoshimoto1 (1.Tokyo Tech. Materials, 2.KISTEC)

Keywords:thermal nanoimprint, polyimide, semiconductor

我々はこれまでに、熱ナノインプリントの一括転写プロセスを用いた、可視光透過率の高い透明ポリイミド(PI)フィルム表面への金ナノ粒子の周期的パターンの転写に成功した。一方、周期的な極微細パターンを有するポリマー基板上における機能性薄膜の作製と評価に関する報告はまだ少ない。本研究では、フレキシブルポリマー材料上に透明酸化物半導体の周期的な微細構造を作製し、形態制御や光学特性・導電性の変化について検討した。