[5p-S42-1~15] 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

△ [5p-S42-9] 熱ナノインプリント法による原子ステップ型超平坦ポリマー基板上への半導体ナノパターンの作製

〇後藤 里紗¹、山田 志織¹、三宮 工¹、金子 智²、松田 晃史¹、吉本 護¹ (1.東工大・物質理工、2.神奈川県産総研)

キーワード：熱ナノインプリント、ポリイミド、半導体

我々はこれまでに、熱ナノインプリントの一括転写プロセスを用いた、可視光透過率の高い透明ポリイミド(PI)フィルム表面への金ナノ粒子の周期的パターンの転写に成功した。一方、周期的な極微細パターンを有するポリマー基板上における機能性薄膜の作製と評価に関する報告はまだ少ない。本研究では、フレキシブルポリマー材料上に透明酸化物半導体の周期的な微細構造を作製し、形態制御や光学特性・導電性の変化について検討した。