2017年第78回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

21 合同セッションK「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」 » 21.1 合同セッションK 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

[6a-A203-1~10] 21.1 合同セッションK 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

2017年9月6日(水) 09:00 〜 11:45 A203 (203)

古田 守(高知工科大)

10:00 〜 10:15

[6a-A203-5] a-InGaZnO TFT光誘起トップゲート効果の照射フォトン密度依存性

竹知 和重1、田邉 浩1 (1.NLTテクノロジー)

キーワード:酸化物半導体、薄膜トランジスタ、光誘起トップゲート効果

a-InGaZnO TFT光誘起トップゲート効果の照射フォトン密度依存性について調べた。ITOトップゲート電極を有するボトムゲート型a-InGaZnO TFTの上部から可視光を照射し、負Vtgを印加した状態でのボトムゲート特性(Vbg-Id)を様々な光強度下で測定した。その結果、光誘起トップゲート効果はフォトン密度のベキ乗に比例することが分かった。このような光誘起トップゲート効果の照射フォトン密度依存性は、光センサとしてのデバイス応用のみならずデバイス物理の視点でも興味深い。