2017年第78回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(ポスター講演)

13 半導体 » 13.3 絶縁膜技術

[6a-PA9-1~11] 13.3 絶縁膜技術

2017年9月6日(水) 09:30 〜 11:30 PA9 (国際センター1F)

09:30 〜 11:30

[6a-PA9-10] 高湿環境下でのSiOx膜の表面酸化過程

奥 友希1、志賀 俊彦1、戸塚 正裕1、高木 晋一1 (1.三菱電機)

キーワード:耐湿性、シリコン酸化膜、加水分解

高湿度環境下で酸化されたSiNx膜はSiOx膜に変化し、SiOx膜はさらに過度に酸化される。いわゆる加水分解の初期過程であるSiOx膜の過剰酸化機構を分子軌道計算により解析した。