[6p-C16-1~17] Latest Application Researches and Future Prospects of Functional Atomic Layers

△ [6p-C16-15] Growth and characterization of transition metal dichalcogenides using halide assist MOCVD

〇(D)Yu Kobayashi¹, Shoji Yoshida², Kota Murase², Naoya Okada³, Toshifumi Irisawa³, Yutaka Maniwa¹, Hidemi Shigekawa², Yasumitsu Miyata¹ (1.Tokyo Metropolitan Univ., 2.Tsukuba Univ., 3.AIST)

Keywords:transition metal dichelcogenides, MOCVD, growth

本研究では，TMDC成長に非常に有用だと考えられるが、未だ報告例が少ない有機金属（MO）原料を用いたMOCVDによるTMDCの成長制御と結晶性向上を，アルカリハライド（AH）を用いて初めて行った。本結果では，AHを用いることで，結晶の核密度の低下，約10倍の結晶サイズの向上，及び欠陥濃度の大幅な低下が確認された。本手法は簡便かつ短時間で成膜が可能であり，高品質結晶の成長やヘテロ構造作製への展開に繋がる重要な成果といえる。