[6p-C17-1~15] 21.1 合同セッションＫ 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

[6p-C17-10] 添加ガスによるAlOx薄膜の諸特性

〇磯部 辰徳¹、瀧 旭¹、瀬名波 匡¹、新井 真¹、清田 淳也¹ (1.アルバック)

キーワード：酸化アルミ、反応性スパッタリング、応力