The 78th JSAP Autumn Meeting, 2017

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Oral presentation

6 Thin Films and Surfaces » 6.4 Thin films and New materials

[6p-C23-1~16] 6.4 Thin films and New materials

Wed. Sep 6, 2017 1:45 PM - 6:15 PM C23 (C23)

Yoshinobu Nakamura(Univ. of Tokyo), Hiroaki Nishikawa(Kinki Univ.)

3:15 PM - 3:30 PM

[6p-C23-6] Orientation control and evaluation of electron transport properties in TiH2 epitaxial thin films

Yuki Sasahara1, Ryota Shimizu1, Rie Nakanishi1, Issei Sugiyama1, Kazunori Nishio1, Hiroyuki Oguchi2, Shin-ichi Orimo2,3, Taro Hitosugi1 (1.Tokyo Tech, 2.Tohoku Univ. AIMR, 3.Tohoku Univ. IMR)

Keywords:metal hydride, epitaxial growth, orientation control

金属水素化物は次世代エレクトロニクス材料への応用が期待されており、そのような応用を見据え、我々のグループでは、金属水素化物のエピタキシャル成長を報告してきた。しかしながら、金属水素化物エピタキシャル薄膜の結晶方位を規定した詳細な物性研究は報告されていない。そこで本研究では (110)及び(111)配向したTiH2エピタキシャル薄膜の作製に成功し、その配向に依存した輸送特性を観測したので報告する。