2017年第78回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

15 結晶工学 » 15.4 III-V族窒化物結晶

[7a-A301-1~11] 15.4 III-V族窒化物結晶

2017年9月7日(木) 09:00 〜 12:00 A301 (メインホール)

荒木 努(立命館大)、太田 実雄(東大)

10:45 〜 11:00

[7a-A301-7] チャネル層にInAlNを用いた薄膜トランジスタの作製

中村 享平1、小林 篤1、上野 耕平1、太田 実雄1,2、徳本 有紀1、藤岡 洋1,3 (1.東大生研、2.JSTさきがけ、3.JST-ACCEL)

キーワード:薄膜トランジスタ、窒化物