2017年第78回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

CS コードシェアセッション » 【CS.8】6.5 表面物理・真空, 7.6 原子・分子線およびビーム関連新技術

[7a-C19-1~9] 【CS.8】6.5 表面物理・真空, 7.6 原子・分子線およびビーム関連新技術

2017年9月7日(木) 09:15 〜 12:00 C19 (C19)

小川 修一(東北大)、吉越 章隆(原子力機構)

10:45 〜 11:00

[7a-C19-6] Ar-GCIBによる有機フッ素薄膜の深さ方向のXPS解析

關 雅志1、片岡 範行2、田中 博美2 (1.東芝テック株式会社、2.米子高専)

キーワード:XPS、Ar-GCIB

有機フッ素薄膜は、撥水・撥油性に高い特性をもっているが、表面に表面エネルギーの低いCF3基やCF2基が存在する必要がある。撥水・撥油性の高い有機フッ素薄膜を開発するには、有機フッ素薄膜の元素結合状態を調べ、CF3基やCF2基が存在する作製条件を明らかにする必要がある。元素結合状態の分析するためには、有機フッ素薄膜に損傷を与えないで表面から深さ方向を分析する必要がある。近年、有機物へほとんど損傷を与えず深さ方向分析ができる手法として、Arガスクラスターイオンビーム(Ar-GCIB)を用いたXPS分析に注目が集まっている。本報告では、Ar-GCIB によって有機フッ素薄膜の深さ方向のXPS測定を行い、元素結合状態を明確にした。