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[7a-C24-4] ケルビンフォースプローブ顕微鏡による還元した酸化グラフェン薄膜の表面電位観察
キーワード:酸化グラフェン、還元、表面電位
酸化グラフェン(GO)の電子デバイスへの応用では、金属材料とのコンタクト抵抗低減に向けて還元したGO薄膜の仕事関数を解明することが重要である。還元したGOでは、その処理条件により欠陥や残存酸素量が大きく異なり、仕事関数に影響するものと考えられる。本研究では、ケルビンプローブフォース顕微鏡およびラマン分光法を用いて、様々な処理条件により得られたGOフレークの表面電位と結晶性の相間について調べた。