2017年第78回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(ポスター講演)

6 薄膜・表面 » 6.1 強誘電体薄膜

[7a-PA6-1~14] 6.1 強誘電体薄膜

2017年9月7日(木) 09:30 〜 11:30 PA6 (国際センター1F)

09:30 〜 11:30

[7a-PA6-1] HfO2-ZrO2薄膜の結晶化挙動に及ぼす熱処理条件の影響

中山 周平1、舟窪 浩2、内田 寛1 (1.上智大理工、2.東工大)

キーワード:酸化ハフニウム、化学溶液堆積法、強誘電体

非ペロブスカイト型結晶構造を有する新規強誘電体材料として蛍石型結晶構造からなるHfO2基固溶体極薄膜の利用が近年注目される。本研究では、簡便かつ低コストな手法である化学溶液堆積法により強誘電相を含有するHfO2-ZrO2固溶体極薄膜の作製を目的とし、溶液法由来前駆体薄膜の形成および結晶化挙動を調査すると同時に、それらの制御による強誘電相の更なる増大を試みた。