2017年第78回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

11 超伝導 » 11.4 アナログ応用および関連技術

[7a-S43-1~12] 11.4 アナログ応用および関連技術

2017年9月7日(木) 09:00 〜 12:15 S43 (第3会議室)

山下 太郎(情通機構)、小嶋 崇文(国立天文台)

11:00 〜 11:15

[7a-S43-8] 磁性薄膜を用いたホットエレクトロンボロメータミキサの検討

川上 彰1、入交 芳久1、山下 太郎1、落合 啓1、鵜澤 佳徳1 (1.情通機構)

キーワード:ホットエレクトロンボロメータミキサ、NbN極薄膜、ニッケル

ホットエレクトロンボロメータミキサを構成する超伝導ストリップと金属電極において,良好な電気的接続にはストリップ上に電極が重なるオーバーラップ領域は不可欠である.しかしこの重なり領域の超伝導薄膜は,LO照射によるホットスポットの形成に対して近接効果により抑制に働き,ミキサ感度の低下を招くと考えている.そこで今回,超伝導-金属電極間に磁性薄膜を挿入,電極下の超伝導性を抑圧し,電極間の超伝導ストリップにのみ超伝導性を存在させる新たなHEBM構造を検討した.IF帯域幅評価など詳細は当日報告する.