[7p-A204-1~14] 【CS.7】6.1 & 13.3 & 13.5 Code-sharing session

△ [7p-A204-4] Growth of {100}-oriented epitaxial Y2O3-HfO2 thin films by sputtering method and their characterization

〇(M2)Taisei Suzuki¹, Takanori Mimura¹, Takao Shimizu², Hiroshi Uchida³, Hiroshi Funakubo^1,2 (1.Tokyo Tech. SMCT, 2.Tokyo Tech. MECS, 3.Sophia Univ. FST)

Keywords:ferroelectric, thin film, epitaxial

HfO2基薄膜にＹやZr等を添加することで強誘電性の発現が確認され、注目されている。我々は将来の大量生産に繋がるプロセスの1つであるスパッタリング法により、(111)配向したHfO2基エピタキシャル薄膜の作製に成功し、強誘電性も確認している。今回は、より大きな強誘電性が期待できる分極軸配向膜の作製と、強誘電性の発現を目指した。