[7p-A402-1~6] 8.4 プラズマエッチング

△ [7p-A402-1] SiN/SiO₂積層深孔加工におけるパターン内壁の表面組成解析

〇岩瀬 拓¹、唐橋 一浩²、浜口 智志² (1.日立研開、2.大阪大学)

キーワード：プラズマ、エッチング、高アスペクト比

3D-NANDデバイスにおいて異種材料の積層膜を一貫で深孔加工する技術が求められている。HBr/N₂/CF_xの混合ガスプラズマでSiN/SiO₂積層膜の一貫深孔加工を行い、深孔内壁の表面組成分析により反応機構を解析した。加工時の基板温度依存性から、臭化アンモニウム由来の臭素の付着量と加工形状の関連が示唆された。さらに加工温度60℃と比べて20℃で、加工速度、垂直性ともに高い深孔加工を実証した。