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[7p-A402-22] 水蒸気スパッタ法におけるターゲット状態の制御と酸化ニッケル薄膜の作製
キーワード:酸化ニッケル薄膜、スパッタリング、エレクトロクロミック
反応性スパッタ法は、金属ターゲットを反応性ガス中でスパッタし、化合物薄膜を形成する方法である。この方法では、金属ターゲットが反応ガスのプラズマに曝されるために、その表面に化合物層が形成される化合物ターゲットモードとなるのが一般的である。本研究では、反応ガスに水蒸気を用いて、酸化ニッケル薄膜を作製し、その時のターゲット状態について検討した。