[7p-A413-1~9] 8.1 Plasma production and control

[7p-A413-5] VUV spectroscopy of ultrapure atmospheric pressure Helium plasmas

〇Katsuhisa Kitano¹, Mika Yoshida¹, Mitsutoshi Aramaki², Kei Shinada³, Satoshi Matsuoka³ (1.Eng. Osaka Univ., 2.Nihon Univ., 3.Shimadzu Co.)

Keywords:atmospheric puressure plasma, VUV, ultrapure plasma

今回、ウルトラピュア大気圧ヘリウムプラズマの真空紫外分光を行った。一般的な大気圧プラズマの実験では～ppmの不純物を有する高純度ガスを用い、それ以下の不純物の影響を想定しない場合が多いが、極微量不純物により発光スペクトルが変化することから、原子分子過程にも影響があり、放電そのものや各種活性種生成に対して影響を与えていると考えるべきである。純物濃度が発光強度に与える影響を評価するために、純化装置の電源を入れてから80nmの発光強度の時間変化を測定したところ、純化装置の温度が上がり出す初期に一旦発光強度が下がるものの、純度向上と共に徐々に発光強度が上がっていき数時間後に一定の強度で落ち着いた。また、超高純度になるにつれプラズマ形状も変化していた。