[7p-C11-1~21] 17.3 層状物質

[7p-C11-2] CVD法により合成したh-BN薄膜の絶縁特性

〇近藤 大雄^1,2、林 賢二郎^1,2、岩井 大介¹、佐藤 信太郎^1,2 (1.富士通研、2.富士通)

キーワード：h-BN、CVD

今回、異なる条件の触媒薄膜を用いて化学気相成長法により合成したh-BN薄膜の絶縁特性の評価を実施したので詳細を報告する。