[7p-C19-1~10] マルチスケールプロセスへの挑戦～ドライかウェットかそれとも…～

[7p-C19-1] マルチスケールプロセスへの挑戦 - シンポジウムの開催にあたって -

〇真田 俊之¹ (1.静大工)

キーワード：半導体デバイス製造

本シンポジウムでは半導体デバイス製造工程で使用される, いわゆるドライ技術，ウェット技術の役割を見直し，新しいマルチスケールプロセスについて検討を行う。本講演では，そのオープンニングとしてそれぞれの講演についての背景等の紹介を行う。