2017年第78回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

シンポジウム(口頭講演)

シンポジウム » マルチスケールプロセスへの挑戦~ドライかウェットかそれとも…~

[7p-C19-1~10] マルチスケールプロセスへの挑戦~ドライかウェットかそれとも…~

2017年9月7日(木) 13:45 〜 17:25 C19 (C19)

上野 和良(芝浦工大)、真田 俊之(静岡大)

13:45 〜 13:50

[7p-C19-1] マルチスケールプロセスへの挑戦 - シンポジウムの開催にあたって -

真田 俊之1 (1.静大工)

キーワード:半導体デバイス製造

本シンポジウムでは半導体デバイス製造工程で使用される, いわゆるドライ技術,ウェット技術の役割を見直し,新しいマルチスケールプロセスについて検討を行う。本講演では,そのオープンニングとしてそれぞれの講演についての背景等の紹介を行う。