13:45 〜 13:50
[7p-C19-1] マルチスケールプロセスへの挑戦 - シンポジウムの開催にあたって -
キーワード:半導体デバイス製造
本シンポジウムでは半導体デバイス製造工程で使用される, いわゆるドライ技術,ウェット技術の役割を見直し,新しいマルチスケールプロセスについて検討を行う。本講演では,そのオープンニングとしてそれぞれの講演についての背景等の紹介を行う。
シンポジウム(口頭講演)
シンポジウム » マルチスケールプロセスへの挑戦~ドライかウェットかそれとも…~
13:45 〜 13:50
キーワード:半導体デバイス製造