2017年第78回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.4 薄膜新材料

[7p-C23-1~22] 6.4 薄膜新材料

2017年9月7日(木) 13:45 〜 19:30 C23 (C23)

土屋 哲男(産総研)、室谷 裕志(東海大)

15:45 〜 16:00

[7p-C23-9] 二硫化モリブデン MOS界面におけるスロートラップ評価

山下 真史1、高木 信一1、竹中 充1 (1.東大院工)

キーワード:二硫化モリブデン、スロートラップ、MOS

二硫化モリブデンMOS界面に存在するスロートラップの定量評価を行った。