The 78th JSAP Autumn Meeting, 2017

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Oral presentation

16 Amorphous and Microcrystalline Materials » 16.1 Fundamental properties, evaluation, process and devices in disordered materials

[7p-C24-1~20] 16.1 Fundamental properties, evaluation, process and devices in disordered materials

Thu. Sep 7, 2017 1:45 PM - 7:00 PM C24 (C24)

Koichi Kajihara(Tokyo Metropolitan Univ.), Kenji Shinozaki(AIST)

4:45 PM - 5:00 PM

[7p-C24-12] Diffusion of Hydroxyl Groups near the Binding Interface of Silica Glasses

〇(M2)Yu Arakawa1, Nobu Kuzuu1, Hideharu Horikoshi2, Hiroki Sakakibara1, Naohiro Horii3 (1.Univ. Fukui, 2.Tosoh SGM, 3.Nat'l Inst. Tech. Fukui)

Keywords:silica glass, binding, diffusion

シリカガラスは表面を平坦に研磨し、接触・加熱することにより接合できる。OH基濃度の異なる2種類のシリカガラスを接合したものを熱処理するとOH基が拡散する。これまで、この方法によるOH基の拡散を研究し、OH基の拡散係数を決定する解析方法が妥当であることが分かった。また、拡散係数の解をもとにOH基濃度に依存しないとして求めた拡散係数が先行研究の実効拡散係数にほぼ一致することを理論的に確認した。