2017年第78回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.1 Si系基礎物性・表面界面・シミュレーション

[8a-A411-1~10] 13.1 Si系基礎物性・表面界面・シミュレーション

2017年9月8日(金) 09:00 〜 11:45 A411 (411)

蓮沼 隆(筑波大)

09:00 〜 09:15

[8a-A411-1] SiO2/Si界面層での水素原子有効電荷と水素分子振動ブルーシフト起源

加藤 弘一1、福谷 克之1 (1.東大生産研)

キーワード:水素、信頼性、劣化

半導体素子では、水素原子による絶縁膜の破壊が素子寿命を大きく左右することが知られ、水素分子も化学的に​関与している可能性が高く、シリコンと酸化膜の界面に蓄積し易い。水素分子振動はシリコン中でレッドシフトし、界面から酸化膜中でブルーシフトする。水素の有効電荷はボロノイ多面体では負にままでブルーシフトに対応しないが、ベリー位相を用いた正確なボルン電荷を求めると、限りなく正に近づくことが分かった。