2017年第78回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.9 光物性・発光デバイス

[8a-A414-1~8] 13.9 光物性・発光デバイス

2017年9月8日(金) 09:30 〜 11:30 A414 (414)

國本 崇(徳島文理大)

11:00 〜 11:15

[8a-A414-7] Si基板上におけるErxY6-xWO12(x=6)薄膜のMBE成長

尾身 博雄1,2、俵 毅彦1,2、山本 秀樹1 (1.NTT物性基礎研、2.NTTフォトニクスセンタ)

キーワード:エルビウム、分子線エピタキシャル成長

前回我々はこのYSO単結晶をしのぐ良質な量子光学結晶を開発することを目的として、Y-Si-O系に含まれる元素Siをそれよりも小さな核磁気モーメントをもつ元素Wで置き換えたY-W-O系に注目し、その中でも特に電子スピンを持たないW6+イオンを含むY6WO12(立方晶)結晶をSi基板上にMBE成長することを試みた。今回はこの非磁性Y6WO12薄膜中にErを添加することを目指し、その第一段階として、Er6WO12をSi(111)上にMBE成長することを試みた。