[8a-PA3-1~27] 12.4 有機EL・トランジスタ

[8a-PA3-19] ポリシルセスキオキサンゲート絶縁膜の紫外線重合用低分子架橋剤の検討

〇(M2)岡田 秀一¹、中原 佳夫¹、宇野 和行¹、田中 一郎¹ (1.和歌山大システム工)

キーワード：有機薄膜トランジスタ、ゲート絶縁膜、ポリシルセスキオキサン

われわれは、polysilsesquioxane(PSQ)を有機薄膜トランジスタ(OTFT)のゲート絶縁膜に応用することを検討している。今回は、PSQを紫外線重合させるために用いる低分子架橋剤としてC=O結合を含まないtriallylcyanurate(TAC)と1,3,5–benzenetrithiol(BTT)の二種類を混合したものを使用し、ペンタセンTFTを作製した。その結果、C=O結合を含むtrimethylolpropane triacrylate (TMPTA)を用いた場合に比べて、ペンタセンTFTの平均キャリア移動度が1.6倍に向上した。