[8a-S21-1~11] 【CS.5】3.11 フォトニック構造・現象,3.12 ナノ領域光科学･近接場光学のコードシェアセッション

[8a-S21-5] 高アスペクト比を有するプラズモニックナノグレーティングの作製および偏光特性

〇小川 新平¹、木股 雅章² (1.三菱電機、2.立命館大学)

キーワード：プラズモニクス、ナノグレーティング、高アスペクト比