2017年第78回応用物理学会秋季学術講演会

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CS コードシェアセッション » 【CS.5】3.11 フォトニック構造・現象,3.12 ナノ領域光科学・近接場光学のコードシェアセッション

[8a-S21-1~11] 【CS.5】3.11 フォトニック構造・現象,3.12 ナノ領域光科学・近接場光学のコードシェアセッション

2017年9月8日(金) 09:00 〜 12:00 S21 (パレスA)

岡本 隆之(理研)、田中 良典(京大)

11:15 〜 11:30

[8a-S21-9] 透明導電酸化物被覆微細構造を用いた高温用太陽光選択吸収材料

清水 信1、阿部 俊郎1、井口 史匡1、湯上 浩雄1 (1.東北大院工)

キーワード:太陽光選択吸収材料、微細構造、透明導電酸化物

我々はこれまでに酸化インジウムスズ(Indium Tin Oxide: ITO)をタングステン基板上へ製膜し、ITOのプラズマ周波数特性に起因した急峻なカットオフ特性を有する太陽光選択吸収材料を報告してきた。本講演ではNi基超合金の自己組織化による微細構造を用いることで​、課題であった太陽光吸収率向上を目指し、その結果高い波長選択吸収特性を達成した。