The 78th JSAP Autumn Meeting, 2017

Presentation information

Oral presentation

8 Plasma Electronics » 8.7 Plasma phenomena, emerging area of plasmas and their new applications

[8p-A402-1~12] 8.7 Plasma phenomena, emerging area of plasmas and their new applications

Fri. Sep 8, 2017 1:15 PM - 4:15 PM A402 (402+403)

Toshiro Kaneko(Tohoku Univ.)

3:45 PM - 4:00 PM

[8p-A402-11] Rate-equation analysis of reactive species in pulsed-discharge plasma treated water (2)

Kazuhiro Takahashi1, Satoru Kawaguchi1,2, Kohki Satoh1, Hideki Kawaguchi1, Igor Timoshkin3, Martin Given3, Scott MacGregor3 (1.Muroran I. T., 2.JSPS Research Fellow, 3.Univ. of Strathclyde)

Keywords:plasma treated water, ROS/RNS, ONOOH

本報告では,殺菌に係る種の前駆体であるONOOHの分解経路と速度定数を考慮した化学反応およびNO2-とHNO2の酸解離平衡に基づくレート方程式を用いて,窒素ガス雰囲気で発生させた水上パルス放電によって生成されるH2O2, NO2-およびNO3-の濃度をシミュレートし,計算結果が実測値とおおむね一致することを示す。