09:00 〜 09:15 [17a-E206-1] [講演奨励賞受賞記念講演] F2レーザー堆積法による低誘電率ナノポーラスSiO2膜の形成 〇當間 拓矢1、諏訪 輝1,2、谷山 大地1、中村 大輔1、池上 浩1,2 (1.九大、2.九大ギガフォトン共同部門)