羽深等

→ Google ScholarでHitoshi Habukaを検索

発表者・著者、共著者

2017年3月16日(木) 09:00 〜 12:15 E206 (E206)

一般セッション(口頭講演)
| 13 半導体
| 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術

[16a-E206-1~13] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術

09:45 〜 10:00

[16a-E206-4] ミニマルＣＶＤ省資源プロセス

〇羽深等¹、松尾美弥¹、山田彩未¹、李寧¹、三ケ原孝則^2,3、池田伸一^2,3、石田夕起^2,3、原史朗^2,3 (1.横国大院工、2.ミニマルファブ技術研究組合、3.産総研)

2017年3月15日(水) 09:00 〜 12:15 F204 (F204)

一般セッション(口頭講演)
| 15 結晶工学
| 15.6 IV族系化合物（SiC）

[15a-F204-1~12] 15.6 IV族系化合物（SiC）

10:45 〜 11:00

[15a-F204-7] SiCエピリアクタクリーニングのための熱分解炭素被膜耐腐食性調査

塩田耕平¹、〇羽深等¹、伊藤英樹²、三谷慎一²、高橋至直³ (1.横国大院工、2.ニューフレアテクノロジー、3.関東電化工業)