12:00 〜 12:15 [14a-213-12] H2O 添加成膜したIn-Ga-O半導体薄膜に及ぼすアニール処理条件の影響 〇中山 徳行1、森本 敏夫1、白木 真菜1、松村 文彦1、小田倉 卓也2、清水 耕作2 (1.住友金属鉱山、2.日本大学)