11:30 〜 11:45 [14a-313-10] 電着表面処理法により形成された極薄高分子絶縁膜 〇金岡 祐介1、中山 健吾1、宇野 真由美1、櫻井 芳昭1、述金 幸弘2 (1.阪府産技研、2.ハニー化成(株))