10:00 〜 10:15 [14a-318-3] Si1-xCx歪補償中間層上のカーボン媒介によるGe量子ドットの自己組織的成長 〇(D)伊藤 友樹1,2、川島 知之1、鷲尾 勝由1 (1.東北大院工、2.学振特別研究員 DC)