17:15 〜 17:30 △ [14p-502-14] ミストCVD法における高品質金属酸化物薄膜作製を目的とした反応メカニズム解析(Ⅰ) 〇(B)西 美咲1、須和 祐太1、刘 丽1、ルトンジャン ピモンパン1、ジャン ダン2、川原村 敏幸1,2 (1.高知工大シス工、2.高知工大総研)