13:30 〜 15:30
〇(D)高安 基大1,3、權田 惇晟1,3、山根 大輔1,3、伊藤 浩之1,3、小西 敏文2、道正 志郎1,3、石原 昇1,3、町田 克之1,2,3、益 一哉1,3 (1.東工大、2.NTT-AT、3.JST-CREST)
高安 基大
発表者・著者、共著者
2017年3月14日(火) 13:30 〜 15:30 P3 (展示ホールＢ)
- 一般セッション(ポスター講演)
- | 13 半導体
- | 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術
2017年3月14日(火) 13:30 〜 15:30 P3 (展示ホールＢ)
13:30 〜 15:30
〇(D)高安 基大1,3、權田 惇晟1,3、山根 大輔1,3、伊藤 浩之1,3、小西 敏文2、道正 志郎1,3、石原 昇1,3、町田 克之1,2,3、益 一哉1,3 (1.東工大、2.NTT-AT、3.JST-CREST)