11:30 〜 11:45 [15a-F204-10] 低不純物濃度 4H-SiC C面エピタキシャル膜のキャリアライフタイム 〇櫛部 光弘1、西尾 譲司1、四戸 孝1、宮坂 晶2、浅水 啓州3、北井 秀憲2、原田 信介2、児島 一聡2 (1.㈱東芝、2.産業技術研究所、3.ローム(株))