09:00 〜 09:15
〇名倉 拓哉1、川内 伸悟2、長川 健太2、白川 裕規2、洗平 昌晃2,3,7、影島 博之4,7、遠藤 哲郎5,6,7、白石 賢二2,3,7 (1.名大工、2.名大院工、3.名大未来研、4.島根大院総合理工、5.東北大院工、6.国際集積セ、7.JST-ACCEL)
名倉 拓哉
発表者・著者、共著者
2017年3月16日(木) 09:00 〜 12:15 413 (413)
- 一般セッション(口頭講演)
- | 13 半導体
- | 13.3 絶縁膜技術
2017年3月16日(木) 09:00 〜 12:15 413 (413)
09:00 〜 09:15
〇名倉 拓哉1、川内 伸悟2、長川 健太2、白川 裕規2、洗平 昌晃2,3,7、影島 博之4,7、遠藤 哲郎5,6,7、白石 賢二2,3,7 (1.名大工、2.名大院工、3.名大未来研、4.島根大院総合理工、5.東北大院工、6.国際集積セ、7.JST-ACCEL)