リックリビングッド

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発表者・著者、共著者

2017年3月16日(木) 13:15 〜 18:00 315 (315)

シンポジウム(口頭講演)
| シンポジウム
| GFIS（電界電離ガスイオン源）ガスイオン顕微鏡技術とその材料・デバイス研究開発への応用：現状と今後の展望

[16p-315-1~11] GFIS（電界電離ガスイオン源）ガスイオン顕微鏡技術とその材料・デバイス研究開発への応用：現状と今後の展望

15:00 〜 15:30

▲ [16p-315-6] Neon GFIS Gas Assisted Etch and Beam Induced Deposition -Characterization for Semiconductor Applications-

〇リックリビングッド¹、Tan Shida¹、Hallstein Roy M.¹、Ali Waqas¹ (1.Intel Corporation)