高部涼太

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発表者・著者、共著者

2017年3月16日(木) 13:45 〜 17:45 B5 (B5)

一般セッション(口頭講演)
| 13 半導体
| 13.2 探索的材料物性・基礎物性

[16p-B5-1~15] 13.2 探索的材料物性・基礎物性

13:45 〜 14:00

[16p-B5-1] [講演奨励賞受賞記念講演] Ba/Siフラックス比を変えて作製したSi(111)基板上undoped n-BaSi₂エピタキシャル膜の評価

〇高部涼太¹、谷内卓¹、都甲薫¹、末益崇¹ (1.筑波大学)