一般セッション(口頭講演)
21 合同セッションＫ「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」 » 21.1 合同セッションＫ 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」
09:00 〜 09:15
〇立山 千聡1、鈴木 智也2、千葉 博2,3、川島 知之2、鷲尾 勝由2 (1.東北大工、2.東北大院工、3.学振特別研究員 DC)
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09:15 〜 09:30
〇(PC)野本 淳一1、北見 尚久1,2、渡辺 剛3、牧野 久雄1、酒見 俊之2、山本 哲也1 (1.高知工科大総研、2.住友重機械工業株式会社、3.高輝度光科学研究センター)
スケジュール
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09:30 〜 09:45
〇山田 容士1、サンシャコグル オルクツ1、杉浦 怜1、正力 幹也1、舩木 修平1 (1.島根大総理工)
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09:45 〜 10:00
〇杉浦 怜1、正力 幹也1、舩木 修平1、山田 容士1 (1.島根大総理工)
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10:00 〜 10:15
〇宇於崎 涼介1、渡辺 恭輔1、宮田 俊弘1、南 内嗣1 (1.金沢工大 OEDS R&D センター)
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10:15 〜 10:30
〇北見 尚久1,2、野本 淳一2、酒見 俊之1、牧野 久雄2,3、青木 康1、山本 哲也2 (1.住友重機械、2.高知工科大総研、3.高知工科大システム工)
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10:45 〜 11:00
〇(P)SANCHELA ANUPKUMAR VINODRAY1、OHTA HIROMICHI1 (1.RIES-Hokkaido Univ.)
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11:00 〜 11:15
〇菊地 直人1、池田 紳太郎2、三溝 朱音2、相浦 義弘1、西尾 圭史2 (1.産総研、2.東理大)
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11:15 〜 11:30
〇三溝 朱音2、菊地 直人1、池田 紳太郎2、相浦 義弘1、西尾 圭史2 (1.産総研、2.東理大)
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11:30 〜 11:45
〇保坂 直寿1、千葉 博1,2、川島 知之1、鷲尾 勝由1 (1.東北大院工、2.学振特別研究員)
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11:45 〜 12:00
〇千葉 博1,2、保坂 直寿1、川島 知之1、鷲尾 勝由1 (1.東北大院工、2.学振特別研究員DC)
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12:00 〜 12:15
〇大野 幸亮1、小林 大士1、高橋 明久1、新井 真1、石橋 暁1 (1.株式会社アルバック)
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