シンポジウム(口頭講演)
シンポジウム » 多様な光源により進展する光プロセスの基礎と応用
2017年3月15日(水) 13:30 〜 18:30 418 (418)
細川 陽一郎(奈良先端大)、坂倉 政明(京大)、鳥塚 健二(産総研)
△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし
13:30 〜 14:00
〇尾松 孝茂1,2 (1.千葉大院融合、2.千葉大分子キラリティー研)
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14:00 〜 14:15
〇長谷川 智士1、早崎 芳夫1 (1.宇都宮大オプティクス)
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14:15 〜 14:45
〇鳥塚 健二1 (1.産総研 電子光)
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14:45 〜 15:00
〇尼子 淳1、中野 秀俊1 (1.東洋大理工)
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15:00 〜 15:15
〇中野 秀俊1、村上 拓1、上田 義人1、尼子 淳1 (1.東洋大理工)
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15:30 〜 16:00
〇平等 拓範1,2,3 (1.分子研、2.総研大、3.豊橋技科大)
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16:00 〜 16:30
〇牧村 哲也1、浦井 ひかり1、中村 大輔3、高橋 昭彦3、新納 弘之4、岡田 龍雄2 (1.筑波大院数理、2.九大院シス情、3.九大院医、4.産総研)
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16:30 〜 16:45
〇(PC)田中 のぞみ1、安田 清和2、和田 直1、出口 亮1、余語 覚文1、西村 博明1 (1.阪大レーザー研、2.阪大院工)
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16:45 〜 17:00
〇作花 哲夫1、廣田 剛1、松本 歩1、天野 健一1、西 直哉1 (1.京大院工)
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17:15 〜 17:45
〇田中 耕一郎1 (1.京大理)
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17:45 〜 18:00
〇永井 正也1、松原 英一1,2、芦田 昌明1、冬木 正紀3、川瀬 啓悟4、入澤 明典4、磯山 悟朗4、青木 順5、豊田 岐聡5 (1.阪大院基礎工、2.大阪歯科大、3.畿央大、4.阪大産研、5.阪大院理)
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18:00 〜 18:30
〇佐野 智一1 (1.阪大院工)
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