The 64th JSAP Spring Meeting, 2017

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Oral presentation

6 Thin Films and Surfaces » 6.4 Thin films and New materials

[14a-213-1~12] 6.4 Thin films and New materials

Tue. Mar 14, 2017 9:00 AM - 12:15 PM 213 (213)

Tamio Endo(Sagamihara Surface Lab.), Akifumi Matsuda(Titech)

11:30 AM - 11:45 AM

[14a-213-10] Fabrication and Structure Analysis of (Cr1-xFex)2O3 Films and Cr2O3/Fe2O3 Bilayer Films grown by Sputtering Method

Shinjiro Fukui1, Takashi Sumida1, Kosuke Hashimoto1, Tsuyoshi Hirato1, Yasuhiro Yanagihara1, Tomoko Nagata1, Hiroshi Yamamoto1, Nobuyuki Iwata1 (1.CST, Nihon Univ.)

Keywords:Magnetoelectric effect, Cr2O3, Fe2O3

本研究の目的は、強磁性体(Ferromagnetic:FM)と電気磁気効果を示す反強磁性体(Antiferomagnetic:AFM)であるCr2O3を積層させ、電界印加による磁化反転を室温で発現させることである。本発表では、格子整合度を改善して溝の発生を抑制するために、Cr2O3へのFeドープもしくはFe2O3との積層膜を作製したので報告する。