[14a-512-1~11] 3.7 レーザープロセシング

[14a-512-9] AlCl₃水溶液中でのXeFエキシマレーザ照射による低温ポリシリコンへのAlドーピング

〇諏訪 輝^1,2、田中 希¹、中村 大輔¹、佐道 泰造¹、池上 浩^1,2 (1.九州大シス情、2.九州大ギガフォトンNextGLP共同部門)

キーワード：液中レーザドーピング、エキシマレーザアニール、低温ポリシリコン

低温ポリシリコンをAlCl₃水溶液中でXeFエキシマレーザを照射し、低温ポリシリコンへのAlドーピングの検討を行った。低温ポリシリコンはガラス基板上に成膜したアモルファスシリコンをXeFエキシマレーザアニーリングにより作製した。AlCl₃水溶液中で低温ポリシリコン膜にXeFレーザ照射した基板を4探針測定を行った。その結果、抵抗率が約1.0 Ω･cmまで低下したことを確認した。