The 64th JSAP Spring Meeting, 2017

Presentation information

Oral presentation

6 Thin Films and Surfaces » 6.4 Thin films and New materials

[14p-213-1~14] 6.4 Thin films and New materials

Tue. Mar 14, 2017 1:45 PM - 6:30 PM 213 (213)

Tetsuo Tsuchiya(AIST), Suzuki Muneyasu(AIST)

6:00 PM - 6:15 PM

[14p-213-13] Sealing treatment of Gd-doped CeO2 synthesized
by chelate flame method

Shota Nakamura1, Atsushi Nakamura1,2, Keiji Komatsu1, Hidetoshi Saitoh1 (1.Nagaoka Univ. Tech., 2.Chubu Chelest Co., Ltd.)

Keywords:chelate flame method, Gd-doped CeO2(GDC)

本研究では、キレートフレーム法を用いて合成したGd添加CeO2の封孔処理を試みた。我々は、キレートフレーム法でGDC膜作製し、その後、(Ce 0.8 Gd 0.2)-EDTA溶液を用いて塗布法と大気焼成を行った。XRD結果より、得られたすべての試料が(Ce 0.7 Gd 0.3)O 1.85結晶を含有していることが分かった。EDX結果よりCeおよびGd原子の存在を確認した。キレートフレーム法後に塗布法と大気焼成を行うことで、封孔処理できると考えられる。