[14p-423-1~14] CS.4 7. コードシェアセッション：ビーム応用大分類

[14p-423-6] ニトロフェニル自己組織化単分子膜における電子線誘起極性変化
によるブロック共重合体のラメラ配向

〇山本 洋揮¹、Guy Dawson²、Alex P.G. Robinson²、古澤 孝弘¹ (1.阪大産研、2.バーミンガム大学)

キーワード：自己組織化、電子線、ブロック共重合体

半導体の微細化が進むにつれて、次世代リソグラフィ用レジスト材料に対する要求が厳しくなってきている。それゆえ、トップダウンの代表であるリソグラフィの限界が唱え始められ、トップダウンとボトムアップを融合した革新的な微細化加工技術が求められている。本研究では、電子線によって誘起される自己組織化単分子の変化を利用することでポリスチレンポリメチルメタクリレートのブロック共重合体の配向制御が可能であるどうか調べた。