[15a-301-1~7] 8.2 プラズマ診断・計測

[15a-301-1] マルチ発光分光計測を用いたエッチング速度分布の推定

〇江藤 宗一郎¹、大森 健史¹、井上 智己² (1.日立研開、2.日立ハイテク)

キーワード：プラズマ、モニタ、発光分布

半導体デバイスのエッチング工程では最重要寸法の厳密制御が重要である。ウェハ面内のER(Etching Rate)分布制御による最重要寸法の面内ばらつき低減に向け，プラズマ発光分布を用いたER分布の推定方法を検討した。チャンバ側面からプラズマ発光分布を計測する光学系を用いて，プラズマ発光分布とER分布の相関解析を行った。その結果，反応生成物の発光分布からER分布が推定できる見通しを得た。