[15a-412-1~10] 6.2 カーボン系薄膜

△ [15a-412-5] 選択成長に向けたリモートプラズマCVD法によるダイヤモンド合成

〇星野 晴華¹、稲葉 優文¹、川原田 洋^1,2 (1.早大理工、2.早大材研)

キーワード：ダイヤモンド、CVD、リモートプラズマ

ダイヤモンドパワーデバイスの立体的な性質を向上するために、選択成長は有用な方法である。プラズマ中に下地基板をおいて選択成長を行う場合、マスクの損傷が大きい。本研究では、マスクの損傷の少ない選択成長に向けて、リモートプラズマCVD法を用いてダイヤモンドの合成を行い、基板温度などの諸条件を独立制御し、その影響について検討した。また、リモートプラズマCVD法による選択成長も試みた。