[15a-416-1~10] 12.3 機能材料・萌芽的デバイス

[15a-416-9] アルキルスルホン化ポリイミド薄膜の吸湿挙動のX線散乱および赤外吸収による解析とプロトン伝導性

〇後藤 崚介¹、原 光生¹、小野 祐太朗²、長尾 祐樹²、永野 修作³ (1.名大院工、2.北陸先端大、3.名大VBL)

キーワード：プロトン伝導性高分子、アルキルスルホン化ポリイミド、湿度制御下赤外吸収スペクトル

我々は、アルキルスルホン化ポリイミド(ASPI)が、加湿下にてライオトロピックラメラ構造を形成し、高いプロトン伝導性を示すことを明らかにしてきた。ASPIの加湿下で高伝導性が発現する因子をさらに解析するべく、吸湿過程の水分子の収着量とプロトン解離の関係に注目した。本発表では、湿度制御下赤外吸収スペクトル測定により吸湿過程のスルホ基の分子状態を解析し、分子組織構造と合わせて伝導性との相関を考察した結果を報告する。