2017年第64回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.3 酸化物エレクトロニクス

[15a-419-1~10] 6.3 酸化物エレクトロニクス

2017年3月15日(水) 09:00 〜 11:30 419 (419)

清水 亮太(東工大)

09:00 〜 09:15

[15a-419-1] AlドープZnOシード層上におけるZnOナノロッドの成長

國分 利紀1、Bramantyo Albertus2、奥谷 昌之3、〇村上 健司3 (1.静岡大学工、2.静岡大学創造院、3.静岡大学総合院)

キーワード:酸化亜鉛ナノロッド、化学水浴法、アルミドープ

酸化亜鉛を電極表面上に化学水浴成長法(CBD法)を用いてエピタキシャル成長させることで、垂直配向ナノロッドアレイを作製し、さらにシード層に金属を添加することで作製時間の短縮ができないかを吟味した。